加热器结构对轻掺磷超低氧直拉单晶硅氧杂质分布的影响

2025-04-07 70 1.59M 0

  摘要:绝缘栅双极晶体管(insulated gate bipolar transistor,IGBT)是能源转换与传输的核心器件,广泛应用于轨道交通、智能电网、航空航天及电动汽车等领域。作为IGBT芯片的衬底材料,轻掺磷超低氧硅晶圆的品质对IGBT芯片的性能起着至关重要的作用。由于直拉法(Czochralski,Cz)单晶硅拉制的过程中需要用到含氧的石英坩埚,生长的单晶硅氧含量通常达到4×1017~9×1017 atoms/cm3,远高于IGBT用硅片所需的小于2.5×1017 atoms/cm3的氧含量需求。为解决上述问题,本文通过对应用32英寸(1英寸=2.54 cm)热场的单晶硅生长进行数值模拟,设计出新式加热器来制备满足IGBT衬底需求的超低氧单晶硅棒。模拟结果显示,当采用分体式加热器时,石英坩埚壁和固液界面附近硅熔体的流速会减弱。这一现象有助于减少熔体中的氧含量及氧杂质向固液界面的传输,进而有效地降低了晶棒中整体的氧含量。此外,由于采用了分体式加热器,晶棒的温度梯度相较于常规加热器显著降低,这一优势也有利于减少硅棒中的氧含量。实验结果进一步证实了模拟结果,在分体式加热器下拉制的单晶硅棒的氧含量更低,且整体保持在2.5×1017 atoms/cm3以下,完全符合IGBT衬底的要求。

  

  文章目录

  

  0 引言

  

  1 仿真模拟和实验方法

  

  1.1 模拟方法

  

  1.1.1炉体和加热器模型的建立

  

  1.1.2 数学模型的建立

  

  1.1.3 模拟物性及工艺条件

  

  1.2 实验方法

  

  2结果与讨论

  

  2.1两种加热器对熔体的影响

  

  2.2晶棒长度为600 mm时两种加热器对熔体的影响

  

  2.3实验结果

  

  3结论



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